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邀请演讲我国自从洁净室工程出现之后，颁布了一系列洁净室工程规范性文件，对于洁净室的指标要求、工程规范、施工要点、材料使用等都做了详细的说明和指导。
截至2018年10月，我国共发布了有关洁净室的国家标准29项。其中《洁净厂房设计规范》是总括性规范文件，《医药工业洁净厂房设计规范》、《电子工业洁净厂房设计规范》、《医院洁净手术部建筑技术规范》和《食品工业洁净用房建筑技术规范》分别对电子工业、医药工业、手术室、食品工业做了更加细致的指导。
集成电路技术升级和产业投资带来洁净室工程新需求
洁净室主要应用领域包括电子、制药、生物工程、医疗卫生、食品、实验室和军工等行业。洁净技术已广泛应用于各行各业或其他要求防止粒子污染、微生物污染的环境控制，由于各行业间差距较大，且要求不同，因此控制环境的内容、指标均不相同。最常见最依赖洁净室为生物制药生产洁净室，食品，化妆品，电子厂，实验室，等等对环境有要求的地方。
由于技术原因和制造工序的复杂程度高，集成电路制造是对洁净度整体要求最高的行业。集成电路由于技术的复杂程度与日俱增，对于空气洁净度的要求也越来越高，核心工艺区需保持 1-4 级的洁净度。而其他大部分行业比如食品制造，药品，医学等行业对洁净度的要求大多在 5-9 级，远低于集成电路和新型显示对洁净度的要求。
2016 年开始，在政策和资金的双重推动下，我国集成电路行业迎来投资的密集期。在集成电路产业基金、国家科技重大专项及地方基金等国家队的带动下，集成电路产业投资开始爆发，比如存储器市场，自 2015 年开始，我国存储器产业市场从零起步，正逐渐形成紫光/长江存储系、福建晋华以及合肥长鑫三足鼎立格局，紫光计划将在十年内成为全球前五大存储器制造商。
洁净室工程是集成电路产业发展最先受益的环节
洁净室工程是集成电路制造环节中重要的一环，直接决定了最终产品的成败。现代集成电路制造工艺已经达到 14 纳米级别，未来几年内 7 纳米工艺即将成熟，集成电路的制造过程一般为自动化软件把算法逻辑生成硬件电路开始，然后将集成电路设计版图转印到光刻板上，集成电路的基础制造材料是硅片，硅片经过各种表面处理后，与光刻板一起经过包括光刻、热处理、介质沉积、化学机械研磨等工艺最终形成集成电路芯片。如果生产过程中洁净程度达不到要求，产品良品率会受到很大影响，最终产品就会失败。
随着技术的进步，集成电路对洁净度的要求越来越高。一般而言，当微粒尺寸达到集成电路节点一半大小时就成为了破坏性微粒，对集成电路的制造产生影响。比如，14 纳米工艺中 7 纳米的微粒就会影响制造过程。随着集成电路的工艺越来越高，目前 5 纳米的工艺已经开始研发，集成电路制造过程需要的洁净程度越来越高，对于洁净室工程的技术提出越来越高的要求。
洁净室市场规模测算方法
通过对行业内各个环节公司的微观调研，大致得到了集成电路和新型显示洁净室工程各环节投资占项目总投资百分比。结合项目案例和调研数据，对于集成电路项目和新型显示项目，一般来说，项目总投资中 70-80%投入到固定资产，固定资产中 20-30%投入到厂房建设中，厂房建设可以分为 3 个部分，工程设计、土建施工、洁净室施工，其分别占的比例为 2-7%，30-40%，50-70%左右，洁净室施工可以分为 6 个子系统，总体能分为洁净系统和机电系统，分别占洁净室工程的 50%，50%。
根据中国电子学会预测，我国洁浄室工程行 业市场规模将由2015年的767.55亿元増至2020年1，412.33亿元，年均复合増 长率在12.97％左右。其中，2018年我国洁净室工程行业市场规模増至1268.58 亿元。
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